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La deposizione chimica assistita dal plasma è il processo attraverso cui si procede alla formazione di film nanometrici portando il materiale dallo stadio gassoso a quello solido. Il plasma, definito anche quarto stato della materia, è un gas in cui una significativa percentuale di atomi o molecole è ionizzata mediante…

In funzione dei noti problemi legati ai processi di cromatura galvanica, da alcuni anni ormai si parla di procedimenti alternativi a basso impatto ambientale e caratterizzati da ridotti consumi energetici.

La deposizione chimica da vapore (CVD, ossia Chemical Vapor Deposition) è una tecnica di cosiddetta “sintesi” che ha l’obiettivo di apporre un deposito su una superficie solida. Tale deposito avviene partendo da un precursore molecolare introdotto in forma gassosa, che si decompone poi sulla superficie da trattare dopo essere stato trasportato mediante l’uso di…