SiOx – Ossido di Silicio Amorfo

Rivestimento ibridato con silicio
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L’ossido di silicio amorfo è un materiale che può essere ottenuto in diverse maniere, una delle quali è la deposizione sottovuoto. In altri termini l’ossido di silicio è comunemente un film sottile, di qualche micron di spessore, incolore, applicato attraverso un processo denominato PACVD (Plasma-Assisted Chemical Vapor Depostio) o PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). I film di SiOx ottenuti mediante tecnologia PECVD sono molto utilizzati in diversi ambiti per le loro proprietà chimico fisiche: resistenza a corrosione ed abrasione in particolare.

OSSIDO DI SILICIO AMORFO: proprietà e procedimento

Nel dettaglio, si tratta di coating di silicio amorfo A:SiOx, trasparente o semitrasparente, con proprietà molto simili al vetro. Infatti, proteggono da abrasione e graffi, grazie ad una durezza intorno ad 800 hv, e da corrosione e ossidazione, grazie alla stabilità chimica e all’omogeneità. Presentano inoltre una grande stabilità termica e sono completamente dielettrici, isolanti.

Il processo di deposizione di questo materiale avviene sottovuoto, in una camera ad atmosfera controllata, dove i gas reagenti vengono ionizzati (plasma) mediante campo elettromagnetico per mezzo di generatori a media od alta frequenza. I pezzi possono essere collegati a potenziale, nel caso di materiali conduttivi, o a terra, oppure possono essere semplicemente esposti al plasma generato da antenne ad hoc, nel caso di materiali non conduttivi. Il passaggio di corrente tra anodo e catodo, potenziale e terra, attraverso il gas che satura la camera, ionizza quest’ultimo, generando un plasma reattivo i cui ioni e radicali bombardano la superficie dando origine al film desiderato.

La forma e la geometria delle antenne sorgenti utilizzate permette di ottenere una deposizione puntuale, molto precisa ed omogenea, anche su geometrie complesse. Lavorando sulla geometria delle antenne si può anche concentrare il bombardamento su alcune aree o evitarne altre, per ottenere il film solo dove lo si desidera. Solitamente vengono usati silil-eteri per portare in camera il silicio necessario che viene ossidato per per ottenere il film SiOx, ma possono essere usati anche monomeri o target solidi da sublimare mediante sputtering.

È possibile asserire che il trattamento all’ossido di silicio produca un aumento della durezza superficiale del materiale, così come un’altissima resistenza ai processi ossidativi e una notevole stabilità termica. Il materiale così trattato è inoltre estremamente sicuro, tanto da essere considerato idoneo persino al contatto con alimenti.

In generale, il trattamento all’ossido di silicio consiste nell’apposizione di un rivestimento composto da una patina incolore dello spessore di pochi micrometri. Possono essere sottoposti al trattamento all’ossido di silicio, e nello specifico alla deposizione ossido di silicio, numerosi materiali come:

  • Polimeri organici
  • Cromo
  • Ceramiche
  • Titanio
  • Alluminio
  • Magnesio
  • Leghe leggere
  • Acciai

Le varianti del trattamento all’ossido di silicio di Antec Finiture

In Antec Finiture srl, abbiamo sviluppato negli anni diverse varianti di questo tipo di trattamento, modificando leggermente la composizione o agendo sul metodo di deposizione per ottenere caratteristiche diverse che trovano spazio nei più diversi ambiti applicativi.

In particolare:

Vantaggi e Caratteristiche dell’ossido di silicio

I principali vantaggi riscontrati dalla deposizione di ossido di silicio sono:

Campi di applicazione trattamento all’ossido di silicio

Il trattamento all’ossido di silicio può essere eseguito in diversi ambiti per le sue caratteristiche di affidabilità e durevolezza. Tra i principali campi di applicazione troviamo:

Immagini